Datoteka:PVD-CVD.jpg
Veličina ovog prikaza: 736 × 599 piksela. Ostale razlučivosti: 295 × 240 piksela | 590 × 480 piksela | 759 × 618 piksela.
Vidi sliku u punoj veličini (759 × 618 piksela, veličina datoteke: 51 KB, MIME tip: image/jpeg)
|
Ova je datoteka sa Zajedničkog poslužitelja i mogu je rabiti drugi projekti. Opis s njezine stranice s opisom datoteke prikazan je ispod. |
Sažetak
| Opis |
English: Representation of a coating from the group of physical vapor deposition (PVD), such as the thermal evaporation. In this method, a material in vacuum environment is heated/evaporated (thermal, laser or electron bombardment) in an evaporator and the resulting material vapor spreads straight from the evaporator in the direction of the substrate.
Deutsch: Darstellung eine Beschichtungsanlage aus der Gruppe der physikalische Gasphasenabscheidung (engl. physical vapor deposition, PVD), beispielsweise das thermische Verdampfen. Bei diesem Verfahren wird ein Material in Vakuumumgebung in einem Verdampfer erhitzt/verdampft (thermisch, durch Laser oder Elektronenbeschuss), der entstehende Materialdampf breitet sich geradlinig vom Verdampfer in Richtung Substrat aus. |
||
| Datum | |||
| Izvor | Vlastito djelo postavljača | ||
| Autor | Dipl-ing-metaller | ||
| Dopuštenje (Naknadna uporaba ove datoteke) |
|
Licencija
Ja, nositelj autorskog prava za ovo djelo, ovime ga objavljujem pod sljedećom licencijom:
Ova datoteka je licencirana pod Creative Commons Imenovanje-Dijeli pod istim uvjetima 3.0 nelokaliziranom licencijom.
- Slobodno smijete:
- dijeliti – umnožavati, distribuirati i javnosti priopćavati djelo
- remiksirati – prerađivati djelo
- Pod sljedećim uvjetima:
- imenovanje autora – Morate pripisati odgovarajuće autorske zasluge, dati poveznicu na licenciju, te naznačiti jesu li načinjene promjene autorskog djela. Prethodno navedeno možete učiniti na svaki razuman način, ali ne na način koji bi sugerirao da Vi ili Vaše korištenje licencorova djela ima izravno licencorovo odobrenje.
- dijeli pod istim uvjetima – Ako ovo djelo izmijenite, preoblikujete ili stvarate na osnovu tog materijala, svoje doprinose morate distribuirati pod istom ili kompatibilnom licencijom kao što je i licencija originala.
Povijest datoteke
Kliknite na datum/vrijeme kako biste vidjeli datoteku kakva je tada bila.
| Datum/Vrijeme | Minijatura | Dimenzije | Suradnik | Komentar | |
|---|---|---|---|---|---|
| sadašnja | 09:26, 9. veljače 2014. | | 759 × 618 (51 KB) | Cepheiden | Reverted to version as of 14:41, 7 September 2010; no watermarks and ugly border shadows |
| 15:59, 3. ožujka 2013. |  | 808 × 682 (94 KB) | Mrsos256 | Reverted to version as of 07:21, 6 September 2010 | |
| 16:41, 7. rujna 2010. |  | 759 × 618 (51 KB) | Cepheiden | cropped; without shadow | |
| 14:42, 7. rujna 2010. |  | 808 × 682 (90 KB) | Dipl-ing-metaller | Wasserzeichen entfernt | |
| 09:21, 6. rujna 2010. |  | 808 × 682 (94 KB) | Dipl-ing-metaller | {{Information |Description={{en|1=The vacuum based processes are basically distinguished into physical vapor deposition (PVD) and chemical vapor deposition (CVD). With these two methods of thin-film technology coating thicknesses from some 100nm up to a f |
Uporaba datoteke
Na ovu sliku vode poveznice sa sljedećih stranica:
Globalna uporaba datoteke
Sljedeći wikiji rabe ovu datoteku:
- Uporaba na de.wikipedia.org
- Uporaba na fr.wikipedia.org
